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桌面型單靶磁控鍍膜儀適用范圍：
該設備可用于制備單層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，經過小型化設計，高度集成，體積小巧，可以放置于桌面上使用，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備。
單靶磁控濺射鍍膜儀技術參數(shù)：
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桌面型單靶磁控鍍膜儀 |
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產品型號 |
CY-MSZ180-50F-DC-Q |
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樣品臺 |
尺寸 |
φ100mm |
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加熱 |
*高500℃ |
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轉速 |
0-20可調 |
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磁控濺射靶 |
數(shù)量 |
2” x1 |
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真空腔體 |
腔體尺寸 |
φ180mm X 215mm |
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觀察窗口 |
全向透明 |
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腔體材料 |
高純石英 |
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開啟方式 |
上蓋拆卸式 |
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真空系統(tǒng) |
機械泵 |
旋片泵 |
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分子泵 |
渦輪分子泵 |
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真空測量 |
電阻規(guī)+電離規(guī) |
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抽氣接口 |
KF16 |
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抽氣接口 |
KF40 |
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排氣接口 |
KF16 |
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極限真空 |
1.0E-4Pa |
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供電電源 |
AC 220V 50/60Hz |
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抽氣速率 |
機械泵1.1L/s 分子泵600L/s |
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電源配置 |
數(shù)量 |
直流電源 x1 |
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*大輸出功率 |
直流電源300W |
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其他 |
供電電壓 |
AC220V,50Hz |
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整機功率 |
2kW |
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整機尺寸 |
550mm X 350mm X400mm |
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