- 磁控濺射鍍膜儀
- 熱蒸發(fā)鍍膜儀
- 高溫熔煉爐
- 等離子鍍膜儀
- 可編程勻膠機
- 涂布機
- 等離子清洗機
- 放電等離子燒結(jié)爐
- 靜電紡絲
- 金剛石切割機
- 快速退火爐
- 晶體生長爐
- 真空管式爐
- 旋轉(zhuǎn)管式爐
- PECVD氣相沉積系統(tǒng)
- 熱解噴涂
- 提拉涂膜機
- 二合一鍍膜儀
- 多弧離子鍍膜儀
- 電子束，激光鍍膜儀
- CVD氣相沉積系統(tǒng)
- 立式管式爐
- 1200管式爐
- 高溫真空爐
- 氧化鋯燒結(jié)爐
- 高溫箱式爐
- 箱式氣氛爐
- 高溫高壓爐
- 石墨烯制備
- 區(qū)域提純爐
- 微波燒結(jié)爐
- 粉末壓片機
- 真空手套箱
- 真空熱壓機
- 培育鉆石
- 二硫化鉬制備
- 高性能真空泵
- 質(zhì)量流量計
- 真空法蘭
- 混料機設(shè)備
- UV光固機
- 注射泵
- 氣體分析儀
- 電池制備
- 超硬刀具焊接爐
- 環(huán)境模擬試驗設(shè)備
- 實驗室產(chǎn)品配件
- 實驗室鍍膜耗材
- 其他產(chǎn)品
單溫區(qū)旋轉(zhuǎn)PECVD石墨烯制備
單溫區(qū)旋轉(zhuǎn)PECVD，安裝有真空自動投料器，爐管尾部預(yù)留KF40接口可以連接收料罐。投料器采用螺桿進(jìn)料，可以以額定的速率將粉料送入爐管，投料速率可通過調(diào)節(jié)轉(zhuǎn)速來更改?？蓪崿F(xiàn)在氣氛保護(hù)的環(huán)境下連續(xù)對粉末材料用PECVD方法進(jìn)行包裹和修飾。收料罐可以在氣氛保護(hù)環(huán)境下對處理好的料粉進(jìn)行收集。
設(shè)備配有100W頻率13.56MHz的視頻電源。能夠在真空中產(chǎn)生等離子體。高能等離子體能夠活化樣品表面，有效的增強反應(yīng)效果，提高反應(yīng)速率，這種輔助方法廣泛用于石墨烯制備，顆粒包覆等科學(xué)實驗上。
本設(shè)備特別適合顆粒型樣品實驗，通過機械傳動能夠控制工作管360°不間斷連續(xù)旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速可調(diào)，使得管內(nèi)物料不斷的被攪拌混合，充分與氣體和等離子體接觸，使樣品的反應(yīng)更加均勻穩(wěn)定。
技術(shù)參數(shù)：
|
射頻電源
|
輸出功率 |
150W |
|
輸出精度 |
±1% |
|
|
射頻頻率 |
13.56MHz |
|
|
射頻穩(wěn)定度 |
±0.005% |
|
|
冷卻方式 |
風(fēng)冷 |
|
|
1200℃單溫區(qū)管式爐
|
供電電壓 |
AC220V，50Hz |
|
*大功率 |
2KW |
|
|
加熱溫區(qū) |
單個溫區(qū)200mm |
|
|
工作溫度 |
*高1200℃，連續(xù)運行溫度應(yīng)≤1100℃ |
|
|
控溫精度 |
±1℃ |
|
|
控溫方式 |
AI-PID 30段工藝曲線，可存儲多條 三溫區(qū)獨立控制，帶有過熱和斷偶保護(hù) |
|
|
爐管材質(zhì) |
高純石英 |
|
|
爐管尺寸 |
φ50x800mm |
|
|
密封方式 |
真空不銹鋼法蘭、KF16法蘭 |
|
|
可調(diào)轉(zhuǎn)速 |
0-20rpm |
|
|
傾斜角度 |
0-15° |
|
|
真空泵 |
旋片機械泵 |
|
|
極限真空度 |
1.0E-1Pa |
|
|
進(jìn)料方式 |
真空漏斗加螺桿進(jìn)料 |
